使车间可用性提高
在当今快速发展的互联世界中，我们深知尽可能地提高客户工作效率的迫切性。我们通过确保客户在市场上占领技术优势来帮助客户提升工作效率，并不断努力降低制造流程可能带来的风险和环境挑战。
Edwards 的集成解决方案会利用我们的全球经验来评估客户整体的真空和排气管理需求，并利用该领域的先进技术满足这些需求。我们的集成系统具有产品和服务稳定一致以及节省空间的优势，可为客户带来更高的生产效率、安全性和环境保证。我们的集成系统还具有安装和设置速度更快、规模经济和安全性更高的直接优势。
创新的极紫外光刻（简称 EUVL 或 EUV）工艺是排名靠前的半导体芯片制造商计划用于先进半导体元件制造的新一代光刻技术。这项技术可促进行业持续地扩展摩尔定律，具有划时代的意义。但是，EUV 面临工具正常运行时间受限的直接挑战。我们完全集成的车间解决方案将为 EUV 光刻制造工艺带来显著的好处。凭借 10 余年来在车间为 EUV 提供支持的经验，我们创新的先进技术解决方案和系统化能力将继续致力于在受控的安全环境中实现尽可能长的 EUV 工艺正常运行时间和尽可能多的产量。
我们完全了解所面临的挑战
利用我们的全球经验来确保客户的成功
流量更大并不意味着需要更大的工具
回收/再利用
适应客户需求的能力和经验。双流量并不意味着系统的尺寸也增加一倍。尽享经验丰富的公司资源、客户团队、服务支持以及全球专业知识
Edwards EUV system
EZENITH 提供先进的系统产品组合，为您的所有半导体制程应用提供完全集成的真空和排气管理解决方案。EZENITH 系统具有以下独特之处：
只有泵和气体减排装置，还不能让工艺流程运转起来。您还需要连接泵排气管，以及在需要时连接管路加热器，让水、净化和电气回路正常运行，确保所有控制信号都工作正常。您还必须考虑双外壳、气体泄漏检测以及在工具维护后如何执行泄漏检查等。所有这些任务都要消费大量的设计时间和资金。我们深知您面临的这个难题，并制定了针对特定工艺的综合解决方案。
我们的集成系统已经针对大多数半导体制程进行了预先设计。排气加热器已设置为正确的温度，以尽可能地降低成本和延长正常运行时间。我们在需要的位置提供了泄漏检查端口和闸阀。整个系统是一个封闭的机组，您只需提供各种所需的公用设施即可。我们会将气、水、电和控制信号分配到需要的地方，为您打造一套可直接投入使用的系统。
Regis (Reactive Gas Inject System) is a chemical reacting system, using remote plasma technology to increase pump lifetime.
The latest generation Regis features a unique reaction chamber design that ensures process gases are efficiently reacted before entering the pump, extending pump lifetime to more than 300 days.
Compared to the previous generation Regis, the footprint has been reduced by 26.5%. The new Regis system coupled with harsh duty series dry vacuum pumps, provides maximum pump uptime and process stability for a series of processes.
Features and benefits:
ReGIS extends the pump lifetime to 300 days or more
Optimized NF3 flow using FTIR studies to minimize CoO.
Reaction efficiency increased by 100% due to new reaction chamber design.
On-line continuous operation.
Reduced tool downtime due to frequent pump swap-outs.
Tool Signal Control ReGIS Plasma ignition capability.
Enhanced Security.
Full system monitoring.
No loss in performance.
No changes in conductance.
Edwards Regis
创新的极紫外光刻（简称 EUVL 或 EUV）工艺是排名靠前的半导体芯片制造商计划用于先进半导体元件制造的新一代光刻技术。这项技术可促进行业持续地扩展摩尔定律，具有划时代的意义。但是，EUV 面临工具正常运行时间受限的直接挑战。我们完全集成的车间解决方案将为 EUV 光刻制造工艺带来显著的好处。凭借 10 余年来在车间为 EUV 提供支持的经验，我们创新的先进技术解决方案和系统化能力将继续致力于在受控的安全环境中实现尽可能长的 EUV 工艺正常运行时间和尽可能多的产量。
我们完全了解所面临的挑战
利用我们的全球经验来确保客户的成功
流量更大并不意味着需要更大的工具
回收/再利用
适应客户需求的能力和经验。双流量并不意味着系统的尺寸也增加一倍。尽享经验丰富的公司资源、客户团队、服务支持以及全球专业知识
Edwards EUV system
EZENITH 提供先进的系统产品组合，为您的所有半导体制程应用提供完全集成的真空和排气管理解决方案。EZENITH 系统具有以下独特之处：
只有泵和气体减排装置，还不能让工艺流程运转起来。您还需要连接泵排气管，以及在需要时连接管路加热器，让水、净化和电气回路正常运行，确保所有控制信号都工作正常。您还必须考虑双外壳、气体泄漏检测以及在工具维护后如何执行泄漏检查等。所有这些任务都要消费大量的设计时间和资金。我们深知您面临的这个难题，并制定了针对特定工艺的综合解决方案。
我们的集成系统已经针对大多数半导体制程进行了预先设计。排气加热器已设置为正确的温度，以尽可能地降低成本和延长正常运行时间。我们在需要的位置提供了泄漏检查端口和闸阀。整个系统是一个封闭的机组，您只需提供各种所需的公用设施即可。我们会将气、水、电和控制信号分配到需要的地方，为您打造一套可直接投入使用的系统。
Regis (Reactive Gas Inject System) is a chemical reacting system, using remote plasma technology to increase pump lifetime.
The latest generation Regis features a unique reaction chamber design that ensures process gases are efficiently reacted before entering the pump, extending pump lifetime to more than 300 days.
Compared to the previous generation Regis, the footprint has been reduced by 26.5%. The new Regis system coupled with harsh duty series dry vacuum pumps, provides maximum pump uptime and process stability for a series of processes.
Features and benefits:
ReGIS extends the pump lifetime to 300 days or more
Optimized NF3 flow using FTIR studies to minimize CoO.
Reaction efficiency increased by 100% due to new reaction chamber design.
On-line continuous operation.
Reduced tool downtime due to frequent pump swap-outs.
Tool Signal Control ReGIS Plasma ignition capability.
Enhanced Security.
Full system monitoring.
No loss in performance.
No changes in conductance.
Edwards Regis
