Your browser is not supported

ご利用のブラウザはサポートされておりません。当社のWebサイトを引き続きご覧になるためには、次のサポートされたブラウザをご利用ください。

リチャード・サルームによるエドワーズEUV水素希釈の説明

EUVリソグラフィは、高精度集積回路の量産に役立っています。これにより、環境に優しい製品への需要が高まり、お客様の生産性も最大化されています。

エドワーズは、お客様の直接排出量の削減を目的として、サブファブで天然ガスを使用しないソリューションを開発し、EUVリソグラフィでの排出ガス管理方法を変更しました。

エドワーズの革新的なチームは、持続可能性を考慮し、EUV – 水素希釈システム(H2D)向けに、ガス燃焼式除害装置に代わる非燃料型の代替製品を開発しました。

/
ビデオトランスクリプト

プロダクトマネジャーの職務

プロダクトマネジャーは、常にお客様の要求を把握し、お客様のニーズの将来的な変化や、お客様の求めるものを本質的に予測しようと努めています。

化石燃料や限りある資源を使用する現行製品を、より環境に優しく、お客様のビジネスに効果的で、生産性の向上に役立つ希釈製品に置き換える方法について説明します。 

EUV市場の現在の推進力

5G、人工知能、チップ製造の急速な成長により、高性能と低消費電力を両立した集積回路へのニーズが高まっています。チップメーカーは、急速なデジタル技術の成長に対応するソリューションを提供するために、新しいテクノロジーへの投資と新しいプロセスの開発を続けています。

EUVリソグラフィにより、チップメーカーはフィーチャーサイズとデバイスサイズを縮小し、これが半導体業界の初期の進化を決定づけました。大量生産メーカーがEUVを使用するために投資を行うのは、許容できる利益を達成するために生産量を最大化するという、大きなプレッシャーを抱えているからです。

EUVツールの全体的なスループットは基本的に固定されているため、チップメーカーは運用コストを削減し、スループットを最大化し、環境コストの削減を検討する必要があります。つまり、生産性を最大化しながら、環境に優しい製品が必要とされているのです。 

世界中のEUVのお客様が直面している課題とは

当社のお客様は、集積回路を持続可能で環境に優しい方法で製造し、提供するという大きなプレッシャーに曝されています。お客様が科学に基づく目標設定イニシアチブ(SBTi)温室効果ガスプロトコルといった持続可能な目標へのコミットメントを強めているのは、カーボンフットプリントを縮小する革新的な方法が必要なのは当然のこととして、さらにE U Vツールの稼動時間向上と安全性強化の両方を重視する必要があるためです。 

 

これらの問題の解決方法

 

大多数のお客様は、温室効果ガスプロトコルのスコープ1と2の削減に取り組んでいます。これは、環境への影響とCO2排出相当量の削減に取り組んでいることを意味します。EUV Zenithシステムで従来から使用されている除害システムは、天然ガスを使用して水素を燃焼させます。水素は、EUVツールの動作と集積回路上でのパターニングの生成を可能にするプロセスガスです。当社の従来の排出ガス管理方法は、管理された方法で排出ガスを燃焼させる方法でしたが、水素希釈製品はファン機構の駆動にのみ電力を使用するため、より安全で、所有コストが低く、より環境に優しい製品です。 

 

H2Dの仕組み

 

H2Dは、当社のEUV Zenithシステムと統合されています。水素プロセスガスは、ファンで安全に希釈して濃度(体積百分率)を下げ、安全な水準未満にしてから大気中に放出されます。

 

安全

 

技術革新の勘所は、水素排出ガスを安全に処理し、サブファブで働く従業員の安全を守る製品を提供することです。当社はファブ周辺の地域社会に対して、企業としての社会的責任があるため、排出ガスを間違いなく安全な水準まで希釈する必要があります。 

 

H2Dがお客様にもたらす利点

 

当社は、お客様が持続可能性と安全性を向上させる必要があるということを理解していますが、市場で成功するためには生産性の向上も必要であることを理解しています。H2Dにより、空気燃焼技術と比較して保守関連作業が大幅に軽減されるため、ファブのEUVツールの性能と可用性が改善されます。また、当社のデュアルファンコンセプトにより、水素を流しながら定期保守作業を実施して、100%の稼動時間を確保する冗長運用が実現します。現在、当社は次世代のEUVツールをサポートするために、さらに容量の大きいH2Dを開発中です。

H2Dについて憶えておくべき重要ポイントは、H2Dは環境コストを削減し、水素を安全に希釈して安全性を確保し、お客様の生産性を向上させるということです。

このテーマの詳細については、デヴィッド・エンガランの記事「HVM EUVリソグラフィの集合排気の課題を理解する」を下記からダウンロードしてください。

Understanding the integrated vacuum challenges of HVM EUV Lithography - PDF

PDF

165 kB

購読

最新情報のEメール配信を希望しますか?