2019年1月14日
F.D. Edwards 先生和百年真空
物理学家 F.D Edwards 于 1919 年在伦敦创立了 Edwards Vacuum。虽然他可能不会意识到 Edwards 今天的运作规模,但他无疑会认识到公司的创新精神以及真空在推动工业和技术方面的关键作用,如同 1919 年他认识到的一样。因为事实上,虽然他熟悉的许多关于真空的关键应用(灯泡、CRT 电视、真空阀)已被全新技术(LED、平板显示屏、半导体晶体管)所取代,但真空作为关键工艺推动因素的需求大大增加,新应用中对创新真空解决方案的需求正以惊人的速度增长。
Edwards 在过去 100 年中取得了重大进展,并继续在科学和技术领域发挥着越来越重要的作用。即使在过去十年间,我们也已看到许多新的真空应用的出现和增长,包括智能手机和平板电脑、HB LED 照明、太阳能光伏电池板和用于电动汽车的锂离子电池的生产。如果我们简单地看一下现代智能手机,那么需要真空作为关键工艺推动要素的制品非常多,从先进的半导体设备,如处理器和内存、mems 传感器、高分辨率 LCD/LED 屏幕、LED 手电筒和锂离子电池,到外壳成型,以及防反光、防油污的屏幕涂层。如果没有真空助力的产品,很难想象今天的生活。
在半导体工艺方面,真空和尾气处理是 sub-fab 实现摩尔定律的两个最重要的功能。真空泵抽空制程腔体,为每个工艺步骤提供所需的压力和流量,同时去除未使用的制程气体和副产品,然后将其传递到尾气处理系统进行处理以便安全排放或处置。在 20 世纪 80 年代,新的半导体工艺和不断增加的气体流量,致使需用油润滑的“湿”泵中所用的油产生了腐蚀性化学品和固体积聚的问题,从而导致泵维护服务间隔短,拥有成本高。开发并引进无需用油的“干泵”,这些问题得以解决。Edwards 的 Henry Wycliffe 于 1984 年注册了罗茨/爪式干泵的专利,该专利很快就被用作实现复杂半导体工艺的新技术,并且从那时起,Edwards 不断创新以实现半导体工艺、以及用于摩尔定律加速的复杂且具有挑战性的化学品的快速发展。在许多情况下,如果没有真空和尾气处理设备的重大创新,就不可能有新的工艺。我们产品对环境的影响也受到广泛的创新方面的关注。仅真空泵就可占半导体制造设施总能耗的 25%,而 Edwards 在创新方面拥有良好的记录,可提供更高效、可持续性更好的产品,同时也解决了越来越多的泵送气体化学方面具挑战性的难题。例如,我们最新的第 5 代半导体干泵使用的能源不到其前代产品的 50%,同时提供的性能更高级、维修间隔更长、占地面积小很多以提高sub-fab的空间利用率。同样,我们的尾气处理系统可以安全地处理具有挑战性的气体,我们每年阻止的气体释放量相当于约 1400 万吨的二氧化碳排放。
Edwards 先生是一位非常成功的企业家,他创造了一个使创新得以蓬勃发展的环境。从那以后,这一直保持在 Edwards 的 DNA 中。我们服务的许多市场和应用都是不断变化的,并且经常对我们产品提出多变的、新的挑战性需求,因此,能够为复杂挑战开发创新解决方案,是推动 Edwards 和我们客户前进的关键因素。为了保持领先于所有新的真空关键应用,Edwards 进行多种创新,成功开发了一系列新产品和新技术。事实上,目前我们拥有超过 20 种不同的原理用于创造真空和减少气体排放,以及超过 2300 种已获批准的专利和待批专利系列。
无论未来会发生什么,真空将继续发挥关键的推动作用。需要真空应用的规模和数量不断扩大,而技术转换一定会发生,Edwards 有能力提供创新的解决方案使其成为可能。当我们环顾日常生活时,很容易看到对新的、改进的解决方案的持续需求是由一些普遍的主题驱动的,例如数字世界和具有更高处理能力的、更智能的互联产品带来的机会。我们将继续专注于通过令产品更节能、更省料来最大限度地减少对环境的影响的解决方案,并以可持续和富有成效的方式支持科学技术的突破——这些都至关重要。“我相信 F.D Edwards 先生将对 Edwards 在其整个 100 年的历史中所取得的成就感到非常自豪,而我们对创新的持续关注和投资能使我们在未来 100 年中处于有利位置!