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薄膜涂层

EDWARDS 创新薄膜技术的真空解决方案

薄膜镀膜技术已全面融入人类生活的方方面面,成为至关重要的组成部分。无论是眼镜镜片、镜架、手机、相机镜头、镀金属食品包装袋、门把手、装饰摆件等民用消费品领域,还是太阳能电池板制造(用于光能储存)、电子电路生产等工业制造领域,都能看到它的身影。这项技术的应用范围十分广泛,为众多日常用品提供了功能支撑。 

薄膜涂层

相关应用案例不胜枚举,各类新型镀膜工艺正被持续研发 —— 这些工艺可将金属、化合物或氧化物沉积于金属、塑料、陶瓷等各类基体表面,借此改变基体的表面特性,改善其透光率、反射率、硬度、耐受性、吸收率、耐腐蚀性及电学性能等关键指标。典型应用案例包括:医疗与环境传感器的精度和灵敏度提升、低辐射玻璃的制备、具备抗反射涂层的眼镜镜片、触摸屏专用抗指纹涂层、车载摄像头类金刚石(DLC)防护涂层、食品包装用防渗透阻隔层、疏水抗污表面处理、人造关节专用摩擦学涂层、智能手机的高饱和度色彩与高清图案实现,以及太阳能电池板的能效提升。 

薄膜镀膜的工作原理是什么?

薄膜镀膜的沉积技术可以简单地划分为物理过程和化学过程。 

物理气相沉积和化学气相沉积

物理气相沉积 (PVD)

该工艺的原理是将材料从固态直接汽化,再使其冷凝沉积于温度更低的基体表面。这类工艺通常需在高真空环境下进行,需将前级真空泵涡轮分子泵、低温泵或扩散泵等次级真空泵组合使用。若要缩短抽气时间、提升生产效率,可在镀膜腔室内额外配置低温水汽捕集泵 —— 即业内所称的 Polycold技术

 

简而言之,主要根据蒸发技术存在不同的 PVD 工艺:

  • 电阻式热源
  • 电子束
  • 电弧放电
  • 磁控管等离子溅射
  • 离子束溅射

 

PVD 镀膜还可以根据其结构设计进行分割:

  • 间歇式镀膜机或箱式涂布机:每次镀膜工艺完成后,再对产品进行装卸料操作。
  • 卷对卷涂布机:将源柔性卷材连续送入涂布工艺室,然后重新卷绕到单独的卷材上,然后在工艺完成时取出。
  • 内联涂布机:满足高处理量要求的真正连续涂布机,产品装载到进料室(也称为装载室或装载锁)中,然后通过出料室(也称为卸料室)出料。

化学气相沉积 (CVD)

这是一种沉积技术,其中源材料或前体以气相引入腔室或反应器,通常在基底上冷凝之前与其他气体发生化学反应。这些过程通常在 10 -3 mbar 及更高压力下进行。化学沉积过程取决于反应的启动方式,简单的热反应,或在减压 (LPCVD) 或等离子体辅助(PECVD 或 PACVD)的帮助下进行。原子层沉积 (ALD) 和液相外延生成工艺的近期进展在电子行业中不断发展。

真空技术在薄膜镀膜领域的应用价值

真空技术对于这些工艺至关重要,这是因为工艺要求材料蒸汽能够无阻碍、无杂质地流入低压环境并沉积于基体表面,或是通过真空环境为等离子体的生成提供必要工艺条件。因此,生成真空环境和监测压力对于这些工艺至关重要。

 

EDWARDS多年来一直致力于开发各种真空解决方案 - 前级真空泵系统、次级真空泵、真空计残余气体分析仪 - 以满足各种涂层工艺的严格要求,从而在薄膜行业中表现出色。无论是管理玻璃和太阳能镀膜工艺所要求的快速泵送周期,还是管理 ALD 或 LPE 应用中的恶劣工艺,我们都有定制化的真空解决方案来满足您的要求。 

以下是 EDWARDS 用于薄膜涂覆工艺的精密真空解决方案

意大利涂料专家 - Kolzer 优化 PVD 沉积

 

 

EDWARDS 的员工站在走廊里微笑着