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面向严苛半导体工艺的下一代干式真空泵，降低总体拥有成本，优化运行时间，支持晶圆厂可持续发展目标。
集成的 EUV 光刻子厂系统，结合真空、氢气处理和回收技术，以优化效率、运行时间和成本。
