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EDWARDS 新型氢气回收系统可减少 EUV 光刻技术的成本、风险和环境影响
全球 | 2022 年 12 月 1 日 | 15:00
EDWARDS 新型氢气回收系统可减少 EUV 光刻技术的成本、风险和环境影响
EDWARDS（全球半导体行业杰出的真空和减排产品、服务及解决方案供应商）今天宣布推出新型氢气回收系统 (HRS)，该系统面向需要大量连续氢气流量的 EUV 光刻技术等应用领域。
HRS 与 EDWARDS 的真空泵和减排系统集成在一起，可回收和再利用大部分氢气（至少 70%）。该系统可降低氢气净消耗量和成本，可减少供应中断带来的财务和工艺风险以及氢气运输和配送带来的安全风险，并可降低 EUV 光刻技术的总能耗和碳排放。
“EUV 光刻技术在所有高级节点工艺中都是必不可少的，”EDWARDS 新兴技术部副总裁 Chris Bailey 表示，“它需要使用大量氢气。此外，随着现有工具的性能升级，以及每天更多工具的上线，其氢气消耗量也在不断增加。回收氢气可使制造商能够显著减少其供应需求，从而降低运营成本和易受干扰的风险。同样重要的是，它可以减少 EUV 光刻工艺的碳排放和能耗。”
EUV 系统使用大流量低压氢气，以防止微粒污染物沉积在 EUV 光束成形和聚焦镜的关键表面上。HRS 与真空和减排系统集成在一起，后者从光刻系统中提取氢气。它将 EUV 光源模块中的气体引导至氢气回收堆栈，并将扫描仪模块中的气体（流量很小，可能含有从光刻胶中排出的污染物）输送至减排系统。在回收堆栈中，抽出的气体通过电化学泵和膜片过滤相结合的工艺进行净化，以回收高纯度氢气。在将气体送回 EUV 系统之前，HRS 会确认气体的纯度，并利用气体流量的故障安全改道来适应 HRS 或减排系统的状态变化。
Bailey 继续说：“该系统是我们与 IMEC 合作伙伴密切合作，历时十年开发的成果。它体现了我们‘通过合作实现可持续发展’的承诺，感谢我们的 IMEC 合作伙伴所做出的巨大贡献。”
IMEC 工厂工程部副总裁 Vincent Nollet 说道：“HRS 安装在我们的 300 mm 试生产线工艺中，并在我们的‘可持续半导体技术和系统’计划框架内进行了验证。其回收氢气的能力以及降低 EUV 工艺的净能耗和‘范围 3’排放的能力均得到了验证。”
虽然氢气是宇宙中非常丰富的元素，但大多数商业化氢气都是通过天然气的蒸汽重整生产出，这一过程消耗了大量能量并排放二氧化碳（直接排放源于重整和随后的水气转换反应，间接排放源于产生高温高压蒸汽所需的电力）。减少氢气净消耗量可减少 EUV 工艺的碳排放。如果需要减排的氢气量减少，将会进一步凸显这一优势，因为可以减少减排过程中的任何能耗和碳排放。