半导体干式泵 Edwards

更环保、更可靠，总拥有成本更低

我们创新的干式泵系列拥有旨在改善半导体和电子制造环境的尖端技术。

每个系列都经过精心设计，在环境绩效、严苛条件下的可靠性以及轻负荷应用中的敏捷性等方面拥有优势。

iXM 系列——低能耗，高性能
用于恶劣环境的 iXH 系列
用于轻型应用的 iXL 系列

iXM 系列——低能耗，高性能

通过提升正常运行时间、减少对环境的影响以及良好的成本效益，Edwards iXM 低能耗系列干式泵可为您的关键应用带来真正的制程改进。

高效的根源机制可将输入功率减少多达 60％，从而减少对环境的影响并降低总体使用成本
气体阻隔技术和热设计方面的改进使产品的抗腐蚀性比我们之前的系列提高了四倍
出色的粉尘处理功能可为多层蚀刻工艺提供高可靠性，并延长真空泵使用寿命
降低 CVD 工艺的功耗
紧凑轻巧的设计，加上非常低的噪声和振动，让您尽享多用途的便利
iXM 系列采用 XCEDE 技术，增强了耐腐蚀性。

Edwards iXM dry pump front and angled view side cover removed

用于恶劣环境的 iXH 系列

iXH 干式泵系列在严苛工艺环境下的工作能力、可靠性和更低的拥有成本方面树立了新标杆。

宽广的温度范围使您可以对真空设备进行优化，更大地减少冷凝和电镀的副产物累积
iXH Mk2 干式泵可在严苛的工艺中提供更长的使用寿命，并且可以显著提高功效
创新的密封技术可以延长制程寿命并降低泄漏风险
采用 XCEDE 技术，增强了耐腐蚀性。

用于轻型应用的 iXL 系列

iXL 系列低能耗紧凑型干式泵适用于轻型应用，例如晶片处理、PVD 和计量等。

快速腔体抽空和低功耗
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干式泵是轻型应用中非常小、非常安静的泵
iXL600M 和 iXL1000M 两种型号经过工艺加固，专门设计用于电介质（氧化）蚀刻和其他类似应用
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干式泵具有高抽取速度和低能耗的特点
iXL900R 适用于真空锁室抽空应用，速度优于同类产品。这款新型的泵特别适用于等离子蒸汽沉积 (PVD) 应用的大型真空锁室的抽空，可帮助客户显著降低运营成本并缩短安装时间。此外，该泵可减少每个真空锁室所需的泵数，进而可缩短安装时间、降低系统化成本、减少维护以及耗电和耗气量。
“绿色模式”可减少闲置期间的公共设施使用、降低成本并有助于提高环境绩效

iXM 系列——低能耗，高性能

通过提升正常运行时间、减少对环境的影响以及良好的成本效益，Edwards iXM 低能耗系列干式泵可为您的关键应用带来真正的制程改进。

高效的根源机制可将输入功率减少多达 60％，从而减少对环境的影响并降低总体使用成本
气体阻隔技术和热设计方面的改进使产品的抗腐蚀性比我们之前的系列提高了四倍
出色的粉尘处理功能可为多层蚀刻工艺提供高可靠性，并延长真空泵使用寿命
降低 CVD 工艺的功耗
紧凑轻巧的设计，加上非常低的噪声和振动，让您尽享多用途的便利
iXM 系列采用 XCEDE 技术，增强了耐腐蚀性。

用于恶劣环境的 iXH 系列

iXH 干式泵系列在严苛工艺环境下的工作能力、可靠性和更低的拥有成本方面树立了新标杆。

宽广的温度范围使您可以对真空设备进行优化，更大地减少冷凝和电镀的副产物累积
iXH Mk2 干式泵可在严苛的工艺中提供更长的使用寿命，并且可以显著提高功效
创新的密封技术可以延长制程寿命并降低泄漏风险
采用 XCEDE 技术，增强了耐腐蚀性。

用于轻型应用的 iXL 系列f

iXL 系列低能耗紧凑型干式泵适用于轻型应用，例如晶片处理、PVD 和计量等。

快速腔体抽空和低功耗
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干式泵是轻型应用中非常小、非常安静的泵
iXL600M 和 iXL1000M 两种型号经过工艺加固，专门设计用于电介质（氧化）蚀刻和其他类似应用
iXL600(N) 和 iXL1000(N) 干式泵具有高抽取速度和低能耗的特点
iXL900R 适用于真空锁室抽空应用，速度优于同类产品。这款新型的泵特别适用于等离子蒸汽沉积 (PVD) 应用的大型真空锁室的抽空，可帮助客户显著降低运营成本并缩短安装时间。此外，该泵可减少每个真空锁室所需的泵数，进而可缩短安装时间、降低系统化成本、减少维护以及耗电和耗气量。
“绿色模式”可减少闲置期间的公共设施使用、降低成本并有助于提高环境绩效

阅读有关 Edwards Vacuum 如何促进可持续发展的更多信息。

The time is now: sustainable semiconductor manufacturing

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