EUV 在大批量制造中面临哪些挑战？

全球对半导体的需求空前高涨，EDWARDS 的客户非常重视有效提高产量，以满足需求，并从可持续投资中获得良好回报。

EDWARDS 深知有效增加 EUV 正常运行时间和提高产量的必要性，并凭借 20 多年的真空和减排数据及性能分析，在帮助客户实现生产率和可持续发展目标方面具有自身的优势。

在突出的制造能力和全球服务基础设施的支持下，EDWARDS 可提供整体 EUV 解决方案，同时不仅为其客户，也为所有利益相关者创造环境和社会价值。

David Engerran 探讨了 EUV HVM 面临的挑战以及 EDWARDS 如何解决这些挑战。

正如我们所知，半导体制造需要几个月的时间，晶圆要通过多种加工工具加工。

每个晶圆厂中非常重要的、很具战略性的、有可能造成瓶颈问题的设备之一就是光刻设备。现在更是如此，因为要制造先进的半导体，还需要使用 EUV。极紫外光刻技术使制造商能够继续缩小特征和器件尺寸，而这正是半导体制造业从诞生之初就取得进步的关键所在。

系统的总产量基本上是固定的，因此确保投资回报率的工作必须专注于有效提高系统可用性，尽可能地降低运营成本以及减少制造流程对环境的影响。

视频和脚本

工艺挑战

从真空和减排角度了解工艺挑战是有效提高机台可用性的一个关键方面。较短波长的 EUV 光照可以产生较小的特征，但也使光刻系统变得更加复杂。EUV 光会被任何物质强烈吸收，因此需要使用精密的反射光学元件，并对整个光束路径进行真空控制。

为确保这些关键光学元件不受污染物污染，EUV 工艺中使用氢气与工艺材料发生反应，并将其从工艺机台中去除并输送至真空系统。这就需要使用真空和减排系统，确保以安全和有效的方式管理这些高流量氢气。

EDWARDS 如何解决这些挑战？

创新的艺术在于找到这样的方法：既能确保晶圆厂人员、周围社区和环境的安全，又能提高效率和降低运营成本。

EUV 使用大量氢气，氢气在空气中易燃，因此需要高度重视安全和环境问题。EDWARDS EUV 系统使用专为 EUV 工艺设计的真空泵，并采用捕集器捕获反应化合物。整个系统包括安全传感器，以确保系统中不存在易燃混合物。传统上，使用燃料燃烧减排系统来燃烧真空泵下游的氢气，但这种方法需要大量的能源和资源，并需要持续维护。

我们的新型无燃料方法摒弃了燃料燃烧的减排方式，可将氢气安全稀释至大大低于可燃范围的水平。在确保安全的同时，还大大降低了能源需求。

幸运的是，氢气本身不会对环境产生负面影响。一旦其浓度低于可燃水平下限，它就相当安全。无燃料氢气管理依赖于对可燃水平、稀释技术和行业安全标准的深入理解。关键操作是用空气稀释氢气，这是一种有悖常理的做法。但是，通过将混合物易燃的关键路径保持非常短并进行仔细监测，气体很快就被稀释至不易燃的浓度，可以安全地通过晶圆厂输送并直接释放到大气中。

无燃料氢气管理消除了受控燃烧产生的燃料成本和碳排放，以及用于稀释的高氮成本。在突出的制造能力和全球服务基础设施的支持下，Edwards 可提供整体 EUV 解决方案，同时不仅为其客户，也为所有利益相关者创造环境和社会价值。

在突出的制造能力和全球服务基础设施的支持下，Edwards 可提供整体 EUV 解决方案，同时不仅为其客户，也为所有利益相关者创造环境和社会价值。