减排新发现推动了整个晶圆厂的创新

规避失败客户暴露出的风险。

半导体行业快速的创新步伐和不断提高的市场期望，意味着研发环境必须确保新工艺技术不断涌现。

原型和演示机台需要能够不间断地用于测试和展示目的。只有无瑕的产品演示才是可以接受的。关键的实验测试可以决定新产品开发的成败。计划外的减排停机对于能否赢得主要半导体制造商的投资承诺具有决定性作用。

研发工作的试验性和可变性造成真空和减排系统不可避免的出现波动。基于时间的维护计划无法避免意外停机事件的风险。

为防止主要工艺和技术开发实验室发生计划外停机事件，辅助间团队必须每天手动跟踪减排设备的状态。

这种手动数据记录过程异常耗时，可能存在人为错误，且仅有辅助间团队可访问。受设备性能影响较大的工艺机台经理却不知晓辅助间的当前状态。除此之外，两个团队都无法有效地共享维护计划。