Your browser is not supported

您正在使用我们不再支持的浏览器。要继续访问我们的网站,请选择以下受支持的浏览器之一。

减排新发现推动了整个晶圆厂的创新

半导体洁净室团队

规避失败客户暴露出的风险。

半导体行业快速的创新步伐和不断提高的市场期望,意味着研发环境必须确保新工艺技术不断涌现。

原型和演示机台需要能够不间断地用于测试和展示目的。只有无瑕的产品演示才是可以接受的。关键的实验测试可以决定新产品开发的成败。计划外的减排停机对于能否赢得主要半导体制造商的投资承诺具有决定性作用。

研发工作的试验性和可变性造成真空和减排系统不可避免的出现波动。基于时间的维护计划无法避免意外停机事件的风险。

为防止主要工艺和技术开发实验室发生计划外停机事件,辅助间团队必须每天手动跟踪减排设备的状态。

这种手动数据记录过程异常耗时,可能存在人为错误,且仅有辅助间团队可访问。受设备性能影响较大的工艺机台经理却不知晓辅助间的当前状态。除此之外,两个团队都无法有效地共享维护计划。

杂乱无章的维护作业耗费研究时间

让两个团队都感到沮丧的是,他们错过了多次协调辅助间设备与工艺机台维护的机会,导致晶圆厂浪费了宝贵的时间。

为寻求更有效且更准确的方法来消除停机事件的风险,该工厂寻求我们的帮助。请下载下方案例研究,了解接下来发生的情况。

客户用例

了解该晶圆厂如何取得辅助间的关键性发现,从而影响整个晶圆厂未来的创新。

下载交互式电子书或 PDF 格式的完整用例

订阅

您是否要接收电子邮件快讯?