ATLAS 提供出众的减排性能
Edwards 的 Atlas™ 具有超卓的可靠性、出色的粉末处理能力和耐腐蚀性，可为半导体、平板显示器、太阳能和 MOCVD 行业提供减排性能。
Atlas 减排技术：一系列燃烧气体减排解决方案 - 选择适合您特定加工过程的解决方案：
- Atlas TCS，适用于常见的 CVD 气体 (NF3/F2)
- Atlas TPU，适用于 CVD 制程中的 PFC 气体（ClF3、C2F6、C3F8）
- Atlas Kronis，适用于新一代制程中的低 k CVD 气体
- Atlas Etch，适用于半导体蚀刻和平板显示器制程（CF4、SF6 和高流量 PFC）
- Atlas Helios，适用于外延和 MOCVD 中氢制程的安全处理
与上一代气体减排装置相比，Atlas ™ 系统的燃料消耗更低。我们使用久经考验的 Alzeta™ 内燃式燃烧器技术，可显著降低拥有成本。Atlas 系统可配备一到六个进气口以及包括温度管理系统 (TMS) 在内的多种选件，可处理高达 1,200 slm 的流量。系统经过专门设计，易于使用，维护效率更高。
Edwards 的内燃式燃烧技术
自 1994 年以来，内燃式燃烧器被大多数大型半导体制造商所采用，现已成为气体减排行业的标准应用。
我们独特的燃烧技术以均匀的燃烧温度运行。这可确保极低的背景排放，并且气体的向内流动可防止工艺材料与腔室壁接触，从而更大程度地减少固体堵塞。燃烧室材料的独特成分可确保优异的耐腐蚀性，并有助于为 Atlas 提供出众的可靠性和安全性。
在我们先进的环境创新中心，我们可提供按照过程精调过的解决方案，以实现久经现场验证和第三方确认的超卓性能。减排 DRE 措施通常超越国际以及地方法规的要求：
低于 TLV 的 SiH4 和其他卤化物
NF3：>99% /
F2：>99% /
CF4：>90%
其他 PFC：>99%
凭借庞大的装机数量、超卓的的寰球应用团队和服务支持，我们可以提供专为您的过程需求而设计的优质解决方案。请与我们的团队联系，我们一起找到最终的解决方案。
