促使创新蓬勃发展的有利环境
EDWARDS 走在 EUV 工厂支持设备的设计和制造领域的前沿，利用每一个机会提高生产效率和创新能力。
极紫外光刻 (EUV) 工艺是排名靠前的半导体芯片制造商用于制造先进半导体元件的光刻技术。但是，EUV 面临工具正常运行时间受限的直接挑战，为此我们通过不断创新集成的辅助间系统，努力提升各项基准性能。
作为该领域 20 年来的创新推动者，EDWARDS 完成的装机量已超过 150 余套系统。这充分表明我们拥有丰富的 EUV 解决方案经验，凭借深厚的数据历史记录和全球服务支持，能够应对任何挑战。
帮助 EUV 客户应对挑战
实现生产率最大化
我们的 EUV 光刻技术支持系统由抽吸能力很强的真空泵和减排设备构成，这些设备高效协同工作，以排放和减少 EUV 半导体制造过程中产生的有害气体。要想尽可能地提高生产率，就需要了解 EUV 光刻技术日益复杂的需求。事实上，提高工具可用性和输出能力的想法正是推动我们创新的原动力。例如，我们近期的升级设计不仅提高了系统功率和维修保养便捷性，还降低了能耗需求并减少了排放量。
可持续性
如今，行业对提高半导体制造工艺的可持续以及实现负责任制造的呼声越来越高。与此同时，制造商还要满足增长需求以及提升处理室生产率的需求。可持续性影响着我们的设计流程。举例来说，EDWARDS 新推出的 EUV 升级技术将每个系统的平均二氧化碳排放量减少了 270000 kg pa。
全球可用的专业知识，本地提供的应用服务
由于在该行业深耕多年，EDWARDS 可利用 20 年的数据和性能分析经验，通过本地化解决方案为全球客户提供支持。这得益于我们拥有全球庞大的装机数量以及装机过程中积累的经验。我们拥有全球服务中心、工程师和专家网络，这意味着我们的客户总能够根据实际信息获得所需的支持。
安全
随着易燃氢气使用量的不断增加，这意味着我们会尽可能地采用本征安全设计。EDWARDS 解决方案包括系统监控功能，以确保 EUV 工具和每个 EDWARDS 系统保持安全运行。
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